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回答：    CIP清洗系統(tǒng)原理：向設(shè)備表面的殘留物施加熱能、機(jī)械能和化學(xué)能，在這些能量的共同作用下實(shí)現(xiàn)設(shè)備的清洗。溫度、機(jī)械作用、化學(xué)作用和時(shí)間是清洗過程中的4個基本要素，為實(shí)現(xiàn)清洗的目的，上述4個要素缺一不可且相互影響、互相補(bǔ)充。